碳包覆回轉(zhuǎn)爐是針對(duì)粉體材料碳包覆工藝設(shè)計(jì)的專用高溫設(shè)備，配備可控氣氛系統(tǒng)，可充入惰性或還原性氣體。爐體回轉(zhuǎn)使物料均勻包覆，精準(zhǔn)控溫保障包覆層致密均勻。廣泛應(yīng)用于鋰電正極材料、納米粉體等領(lǐng)域，提升材料導(dǎo)電性與穩(wěn)定性。

碳包覆回轉(zhuǎn)爐

產(chǎn)品應(yīng)用：

該設(shè)備常用于粉狀或顆粒狀物料的連續(xù)化處理，例如煅燒、燒結(jié)、裂解、摻雜等。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

動(dòng)態(tài)煅燒，相比靜態(tài)煅燒受熱均勻。

爐管內(nèi)設(shè)計(jì)特殊炒料板，物料無生燒、夾生燒、過燒現(xiàn)象。

采用環(huán)形加熱，溫場穩(wěn)定。采用高檔鎳鉻絲，布局合理，使用壽命長。

物料在爐內(nèi)運(yùn)行的時(shí)間進(jìn)行精確控制。

節(jié)能效率高。使用的保溫材料，高效節(jié)能。

核心結(jié)構(gòu)組成

爐體系統(tǒng)

爐體采用耐高溫合金材質(zhì)，呈臥式圓柱形，具備低速回轉(zhuǎn)功能，轉(zhuǎn)速可在 0.5–10r/min 范圍內(nèi)無級(jí)調(diào)節(jié)，確保物料在爐內(nèi)充分翻滾、受熱及包覆均勻。部分機(jī)型配備傾斜角度調(diào)節(jié)裝置，可靈活控制物料的停留時(shí)間與出料速度。

溫控系統(tǒng)

采用智能溫控儀表與熱電偶精準(zhǔn)控溫，加熱方式涵蓋電加熱、燃?xì)饧訜岬龋ぷ鳒囟葏^(qū)間寬，常規(guī)可達(dá)500–1200℃，部分gao端機(jī)型可突破 1500℃，控溫精度 ±1℃，滿足不同粉體材料的包覆工藝需求。

氣氛控制系統(tǒng)

配備密閉式爐體密封結(jié)構(gòu)與氣體輸送系統(tǒng)，可按需通入氮?dú)狻鍤獾榷栊詺怏w，或氫氣等還原性氣體，精準(zhǔn)調(diào)控爐內(nèi)氣氛環(huán)境，防止粉體材料高溫氧化，保障碳包覆層的純度與完整性。

進(jìn)料與出料系統(tǒng)

支持連續(xù)式或間歇式操作，進(jìn)料端設(shè)螺旋給料機(jī)，實(shí)現(xiàn)定量均勻進(jìn)料；出料端配備冷卻裝置，避免物料高溫下二次反應(yīng)，同時(shí)降低出料溫度，便于后續(xù)收集與處理。

控制系統(tǒng)

集成 PLC 可編程控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)速、溫度、氣氛濃度、進(jìn)料出料速度等參數(shù)的自動(dòng)化聯(lián)動(dòng)控制，支持工藝參數(shù)存儲(chǔ)與調(diào)用，降低人工操作誤差。

碳包覆回轉(zhuǎn)爐設(shè)備選型表：