氧化鋯陶瓷膠體磨是SGN工程師針對對金屬污染要求特別高的行業，以及精細化工或者醫藥行業設計生產的。GMG2000系列陶瓷膠體磨能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。高速陶瓷膠體磨的研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。

產品型號：GMC2000

更新時間：2025-07-25

廠商性質：生產廠家

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膠體磨

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三級乳化機主要用于微乳液及超細懸乳液的生產

產品介紹

氧化鋯陶瓷膠體磨是由二組陶瓷轉子，二組陶瓷定子組成，在陶瓷膠體磨泵腔內部轉子高速旋轉，使陶瓷轉子甩出，緊貼陶瓷定子，產生強勁的動能能快速地將粉體分散到液體中，高效、快速、均勻地將一個相或多個相分布到另一個連續的相中，通常物料中的各個相是互不相溶的。
氧化鋯陶瓷膠體磨使物料在定轉子之間微小的空隙中受到剪切、離心擠壓、撞擊、研磨、高頻振蕩等綜合作用，使物料經過研磨后細度大大提高，再通過適量的添加劑共同作用，使產品快速、均勻、分散、乳化，研磨，避免了原金屬膠體磨磨損后效果差缺點，效能比原來有膠體磨提高3倍以上，陶瓷膠體磨特別是對金屬污染要求特別高的企業，如電子和電池行業，可以達到更高品質產品。

應用領域：
電子電池：鋰電池正極漿料、鋰電池負極漿料、電路板基材漿料
納米材料：超細碳酸鈣、白炭黑等納米材料解聚、納米粉體應用固-液分散
精細化工：熱熔膠、密封膠、膠水、絮凝劑、表面活性劑
生物醫藥：藥膏、軟膏、霜劑、注射劑、微膠囊乳劑、填充劑分散

流量輸出線速度功率入口/輸出連接
類型l/hrpmm/skW
GMG2000/4509,000232.2DN25/DN15
GMG2000/52006,000237.5DN40/DN32
GMG2000/105004,2002322DN50/DN50
GMG2000/2015002,8502337DN80/DN65
GMG2000/3030001,4202355DN150/DN125
GMG2000/5060001,10023110DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%。

1表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
3如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。
4本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準。
5本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料；物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

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